氧化鎵半導體網上都通俗地叫第四代半導體,但正確的應該叫超寬禁帶材料。
氧化鎵(Ga2O3)是一種無機化合物,Ga2O3 有五種同分異構體:α,β,γ,δ,ε。這些同分異構體中,其中Z穩定的是β-異構體,當加熱至1000℃以上或水熱條件(即濕法)加熱至300℃以上時,所有其他的異構體都被轉換為β-異構體??刹捎酶髯圆煌姆椒ㄖ频酶鞣N純的異構體。
氧化鎵獨特魅力一:超寬禁帶。
氧化鎵與碳化硅、氮化鎵相比,氧化鎵基功率器件具備高耐壓、低損耗、高效率、小尺寸等特點,例如:同等耐壓情況下,對比起碳化硅基器件的損耗,氧化鎵基要降低86%,尺寸僅為碳化硅基的1/5左右。
作為新一代半導體材料的氧化鎵(Ga2O3),是繼第三代半導體碳化硅(SiC)和氮化鎵(GaN)之后Z具市場潛力的材料。我國內超2/3的半導體產品依賴進口,氧化鎵的出現,是國內市場的一次機遇,有望擊碎“卡脖子”的現況。為此,今年我國科技部將氧化鎵列入“十四五重點研發計劃”,讓第四代半導體獲得更廣泛關注。
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