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氧化銦是一種無機化合物，化學式為In2O3，是一種兩性氧化物，且為銦*穩定的氧化物。氧化銦廠家生產的氧化銦是一種新的n型透明半導體功能材料，具有較寬的禁帶寬度、較小的電阻率和較高的催化活性，在光電領域、氣體傳感器、催化劑方面得到了廣泛應用。而氧化銦顆粒尺寸達納米級別時除具有以上功能外，還具備了納米材料的表面效應、量子尺寸效應、小尺寸效應和宏觀量子隧道效應等。
氧化銦塊狀樣品可通過銦（Ⅲ）的氫氧化物、硝酸鹽、碳酸鹽或硫酸鹽的熱分解來制備。氧化銦的薄膜可以通過在氬/氧氣中銦靶的濺射沉積來制備。它們可被用作半導體的擴散阻擋層（“阻擋金屬”），例如可抑制鋁和硅之間的擴散。
化學性質：
氧化銦在700℃分解為氧化亞銦（一氧化二銦），其于2000℃進一步分解。
淡黃色的氧化銦可溶于酸和堿，但棕紅色的相對難溶。和氨在高溫下反應，形成氮化銦。
In2O3 +2NH3 → 2InN + 3H2O
同樣地，氧化銦也能被氫氣還原，產生氧化亞銦或金屬銦：
氧化銦和Cs2O在600℃反應，可以得到無色吸濕性的偏銦酸銫（CsInO2）[4]；K2O和銦可以形成分子式為K5InO4的化合物，其中有四面體結構的InO45?。
應用：
氧化銦被使用在一些類型的電池，對可見光透明的薄膜紅外線反射鏡（熱鏡），一些光學涂層，有的抗靜電涂料。二氧化錫的組合，氧化銦形式的氧化銦錫（也稱為錫摻雜的氧化銦或ITO）用于透明導電涂層的材料。
在半導體中，氧化銦可以作為一種n型半導體，用于集成電路中的電阻器。
在組織學，氧化銦被用作一些染色劑配方的一部分。
