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氧化銦錫主要的特性分析

2021-02-19 17:45:30

氧化銦錫主要的特性是其電學(xué)傳導(dǎo)和光學(xué)透明的組合。然而,薄膜沉積中需要作出妥協(xié),因為高濃度電荷載流子將會增加材料的電導(dǎo)率,但會降低它的透明度。

氧化銦錫薄膜*通常是物理氣相沉積、或者一些濺射沉積技術(shù)的方法沉積到表面。

氧化銦錫

因為銦的價格高昂和供應(yīng)受限、ITO層的脆弱和柔韌性的缺乏、以及昂貴的層沉積要求真空,其它取代物正被設(shè)法尋找。碳納米管導(dǎo)電鍍膜是一種有前景的替代品(石墨烯是*佳的替代品)。這類鍍膜正在被Eikos發(fā)展成為廉價、力學(xué)上更為健壯的ITO替代品。PEDOT和PEDOT:PSS已經(jīng)被愛克發(fā)和H.C. Starck制造出來.PEDOT:PSS層已經(jīng)進(jìn)入應(yīng)用階段(但它也有當(dāng)暴露與紫外輻射下時它會降解以及一些其他的缺點(diǎn))。別的可能性包括諸如鋁-參雜的鋅氧化物。

氧化銦錫應(yīng)用領(lǐng)域:

ITO主要用于制作液晶顯示器、平板顯示器、等離子顯示器、觸摸屏、電子紙、有機(jī)發(fā)光二極管、以及太陽能電池、和抗靜電鍍膜還有EMI屏蔽的透明傳導(dǎo)鍍膜。

ITO也被用于各種光學(xué)鍍膜,*值得注意的有建筑學(xué)中紅外線-反射鍍膜(熱鏡)、汽車、還有鈉蒸汽燈玻璃等。別的應(yīng)用包括氣體傳感器、抗反射膜、和用于VCSEL激光器的布拉格反射器。

ITO薄膜應(yīng)力規(guī)可以在高于1400°C及嚴(yán)酷的環(huán)境中使用,例如氣體渦輪、噴氣引擎、還有火箭引擎。

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