金屬鎵是一種銀白色的稀有金屬。1875年,法國的布瓦博德朗在用光譜分析從閃鋅礦得到的提金屬鎵,鎵的發現不僅是一個化學元素的發現,它的發現引起了科學家們對門捷列夫擬定的元素周期系的注重,使化學元素周期系得到贊揚和供認。氧化鉍我國金屬鎵的消費領域包括半導體和光電材料、太陽能電池、合金、醫療器械、磁性材料等,其中半導體行業已成為鎵最大的消費領域,約占總消費量的80%。黑河哪里有氧化鉍粉末隨著鎵下游應用行業的快速發展,尤其是半導體行業和太陽能電池行業,未來金屬鎵需求也將穩步增長。
鉍具有一系列的優良特性,如比重大、熔點低、凝固時體積冷脹熱縮等,尤其是鉍的無毒與不致癌性使鉍具有很多特殊的用途。氧化鉍鉍廣泛應用于冶金、化工 、電子、宇航 、醫藥等領域。哪里有氧化鉍從消費結構來看,各國鉍的消費結構各有側重,美國鉍的消費主要用于冶金添加劑、低熔點合金、焊料、彈藥筒以及醫藥化工行業等;日本和韓國的消費主要以電子行業為主;中國鉍消費仍舊是以傳統領域為主。
對于濺射類鍍膜:可以簡單理解為利用電子或高能激光轟擊靶材,并使表面組分以原子團或離子形式被濺射出來,并且終沉積在基片表面,經歷成膜過程,終形成薄膜。氧化鉍濺射鍍膜又分為很多種,總體看,與蒸發鍍膜的不同點在于濺射速率將成為主要參數之。黑河氧化鉍濺射鍍膜中的激光濺射鍍膜pld,組分均勻性容易保持,而原子尺度的厚度均勻性相對較差(因為是脈沖濺射),晶向(外沿)生長的控制也比較般。以pld為例,因素主要有:靶材與基片的晶格匹配程度、鍍膜氛圍(低壓氣體氛圍)、基片溫度、激光器功率、脈沖頻率、濺射時間。
薄膜均勻性的概念:1.厚度上的均勻性,也可以理解為粗糙度,在光學薄膜的尺度上看(也就是1/10波長作為單位,約為100A)。哪里有氧化鉍粉末真空鍍膜的均勻性已經相當好,可以輕松將粗糙度控制在可見光波長的1/10范圍內,也就是說對于薄膜的光學性來說,真空鍍膜沒有任何障礙。氧化鉍但是如果是指原子層尺度上的均勻度,也就是說要實現10A甚至1A的表面平整,是現在真空鍍膜中主要的技術含量與技術瓶頸所在,具體控制因素下面會根據不同鍍膜給出詳細解釋。