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氧化鎵
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沈陽高純氟化鋇粉末

2023-12-15
沈陽高純氟化鋇粉末

氧化鎵的導熱性能較差,但其禁帶寬度(4.9eV)超過碳化硅(約3.4eV),氮化鎵(約3.3eV)和硅(1.1eV)的。氟化鋇由于禁帶寬度可衡量使電子進入導通狀態所需的能量。采用寬禁帶材料制成的系統可以比由禁帶較窄材料組成的系統更薄、更輕,并且能應對更高的功率,有望以低成本制造出高耐壓且低損失的功率元件。高純氟化鋇粉末寬禁帶允許在更高的溫度下操作,從而減少對龐大的冷卻系統的需求。

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于從含鈧礦物中直接提取鈧制品較困難,因而目前主要從處理含鈧礦物的副產物如廢渣、廢水、煙塵、赤泥中回收和提取氧化鈧,再以高純氧化鈧制備金屬鈧、鈧鋁中間合金、鈧鹽等鈧產品。氟化鋇據新思界產業研究中心發布的《2019-2023年中國鈧產品行業市場供需現狀及發展趨勢預測報告 》。高純氟化鋇粉末目前從工業廢液中直接提取鈧的工藝主要有三種:溶劑萃取法、化學沉淀法、離子交換法。

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極易溶于水,稍溶于乙醇和乙醚。在空氣中強烈吸濕。氟化鋇將金屬銦與鹽酸(滴入少量H2O2)反應,濃縮溶液時可得InCl3·4H2O,為無色結晶。56℃溶于自身的結晶水。在空氣中加熱將失去HCl,最終產物為In2O3而不能得無水的InCl3。無水的InCl3通常用金屬銦和干燥的氯氣在150~300℃直接反應制得;或用三氧化二銦(In2O3)和硫酰氯(SOCl2)反應,三氯化銦以純品升華出來。高純氟化鋇粉末三氯化銦稀水溶液噴撒在飼料上用作羊毛生長促進劑。也還有一氯化銦(InCl)和二氯化銦存在,前者由金屬銦與氯化汞(HgCl2)在325℃反應制得,后者用三氯化銦與金屬銦反應制得。二者不穩定,遇水分解。所以根據以上所述氧化銦是無毒的。

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氧化鎵是一種新興的功率半導體材料,其禁帶寬度大于硅,氮化鎵和碳化硅,在高功率應用領域的應用優勢愈加明顯。氟化鋇但氧化鎵不會取代SiC和GaN,后兩者是硅之后的下一代主要半導體材料。氟化鋇粉末氧化鎵更有可能在擴展超寬禁帶系統可用的功率和電壓范圍方面發揮作用。而最有希望的應用可能是電力調節和配電系統中的高壓整流器,如電動汽車和光伏太陽能系統。但是,在成為電力電子產品的主要競爭者之前,氧化鎵仍需要開展更多的研發和推進工作,以克服自身的不足。

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