二氧化鍺為四方晶系、六方晶系或無定形體。氧化銦六方結晶與β-石英同構,鍺為四配位,四方結晶具有超石英型結構,類似于金紅石,其中鍺為六配位。高壓下,無定形二氧化鍺轉變為六配位結構;隨著壓力降低,二氧化鍺也逐漸變為四配位的結構。類金紅石型結構的二氧化鍺在高壓下可轉變為另一種正交晶系氯化鈣型結構。求購氧化銦二氧化鍺不溶于水和鹽酸,溶于堿液生成鍺酸鹽。 類金紅石型結構的二氧化鍺比六方二氧化鍺更易溶于水,它與水作用時可產生鍺酸。二氧化鍺與鍺粉在1000°C共熱時,可得到一氧化鍺。
對于濺射類鍍膜:可以簡單理解為利用電子或高能激光轟擊靶材,并使表面組分以原子團或離子形式被濺射出來,并且終沉積在基片表面,經歷成膜過程,終形成薄膜。氧化銦濺射鍍膜又分為很多種,總體看,與蒸發鍍膜的不同點在于濺射速率將成為主要參數之。綏化氧化銦濺射鍍膜中的激光濺射鍍膜pld,組分均勻性容易保持,而原子尺度的厚度均勻性相對較差(因為是脈沖濺射),晶向(外沿)生長的控制也比較般。以pld為例,因素主要有:靶材與基片的晶格匹配程度、鍍膜氛圍(低壓氣體氛圍)、基片溫度、激光器功率、脈沖頻率、濺射時間。
金屬鉍粉主要用于制造易熔合金,熔點范圍是47~262℃,最常用的是鉍同鉛、錫、銻、銦等金屬組成的合金,用于消防裝置、自動噴水器、鍋爐的安全塞,一旦發生火災時,一些水管的活塞會“自動”熔化,噴出水來。氧化銦在消防和電氣工業上,用作自動滅火系統和電器保險絲、焊錫。鉍合金具有凝固時不收縮的特性,用于鑄造印刷鉛字和高精度鑄型。氧化銦粉末碳酸氧鉍和硝酸氧鉍用于治療皮膚損傷和腸胃病。用于制低熔合金,在消防和電氣安全裝置上有特殊的重要性,在分析化學中用于檢測Mn。鉍可制低熔點合金,用于自動關閉器或活字合金中。
薄膜均勻性的概念:1.厚度上的均勻性,也可以理解為粗糙度,在光學薄膜的尺度上看(也就是1/10波長作為單位,約為100A)。求購氧化銦粉末真空鍍膜的均勻性已經相當好,可以輕松將粗糙度控制在可見光波長的1/10范圍內,也就是說對于薄膜的光學性來說,真空鍍膜沒有任何障礙。氧化銦但是如果是指原子層尺度上的均勻度,也就是說要實現10A甚至1A的表面平整,是現在真空鍍膜中主要的技術含量與技術瓶頸所在,具體控制因素下面會根據不同鍍膜給出詳細解釋。