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氧化鎵
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無錫高純氮化鎵粉末

2021-09-15
無錫高純氮化鎵粉末

氧化鎵(β-Ga2O3)作為繼GaN和SiC之后的下一代超寬禁帶半導體材料,其禁帶寬度約為4.8 eV,理論擊穿場強為8 MV/cm,電子遷移率為300 cm2/Vs,因此β-Ga2O3具有4倍于GaN,10倍于SiC以及3444倍于Si的Baliga技術指標。氮化鎵同時通過熔體法可以獲得低缺陷密度的大尺寸β-Ga2O3襯底,使得β-Ga2O3器件的成本相比于GaN以及SiC器件更低。隨著高鐵、電動汽車以及高壓電網輸電系統的快速發展,全世界急切的需要具有更高轉換效率的高壓大功率電子電力器件。無錫氮化鎵β-Ga2O3功率器件在與GaN和SiC相同的耐壓情況下,導通電阻更低、功耗更小、更耐高溫、能夠極大地節約上述高壓器件工作時的電能損失,因此Ga2O3提供了一種更高效更節能的選擇。

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氧化鈧的化學式為Sc2O3。性質:白色固體。具有稀土倍半氧化物的立方結構。密度3.864.熔點2403℃±20℃。不溶于水,溶于熱酸中。氮化鎵由鈧鹽熱分解制得。可用作半導體鍍層的蒸鍍材料。制做可變波長的固體激光器和高清晰度的電視電子槍、金屬鹵化物燈等。由于Sc2O3產品具有獨特的物化性質,故在20世紀80年代以來,在許多高新技術和工業部門中獲得了較好的應用發展。高純氮化鎵粉末目前我國及世界的Sc2O3在合金、電光源、催化劑、激活劑和陶瓷等領域的應用狀況敘述于后。

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氧化鎵是一種新興的功率半導體材料,其禁帶寬度大于硅,氮化鎵和碳化硅,在高功率應用領域的應用優勢愈加明顯。氮化鎵但氧化鎵不會取代SiC和GaN,后兩者是硅之后的下一代主要半導體材料。氮化鎵粉末氧化鎵更有可能在擴展超寬禁帶系統可用的功率和電壓范圍方面發揮作用。而最有希望的應用可能是電力調節和配電系統中的高壓整流器,如電動汽車和光伏太陽能系統。但是,在成為電力電子產品的主要競爭者之前,氧化鎵仍需要開展更多的研發和推進工作,以克服自身的不足。

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鎵的市場小,很容易受外界的影響,中鋁河南、遵義工廠的開工使鎵的供應增加,市場對后市供應可能會再度過剩的恐慌情緒對價格產生影響,造成鎵的價格難以維持平穩,鎵的進行價格調整期。氮化鎵需要指出的是,目前鎵的價格已經接近生產成本線,后續鎵的生產將進入虧本經營,鎵市場降價趨勢的過早來臨改變了本年度下游對市場的預期,2017年的最后一個多月,鎵市場將會進入煎熬的調整期。氮化鎵粉末下周鎵的市場預期仍不被看好,將穩中有降低。

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用途:用于制鍺,也用于電子工業。用作半導體材料。氮化鎵用作金屬鍺和其他鍺化合物的制取原料、制取聚對苯二甲酸乙二酯樹脂時的催化劑以及光譜分析和半導體材料。可以制造光學玻璃熒光粉,可作為催化劑用于石油提煉時轉化、去氫、汽油餾份的調整、彩色膠卷及聚脂纖維生產。氮化鎵粉末不但如此,二氧化鍺還是聚合反應的催化劑,含二氧化鍺的玻璃有較高的折射率和色散性能,可作廣角照相機和顯微鏡鏡頭,隨著技術的發展,二氧化鍺被廣泛用于制作高純金屬鍺、鍺化合物、化工催化劑及醫藥工業,PET樹脂、電子器件等。

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三氧化二鉍純品有α型和β型。α型為黃色單斜晶系結晶,相對密度8.9,熔點825 ℃,溶于酸,不溶于水和堿。氮化鎵β型為亮黃色至橙色,正方晶系,相對密度8.55,熔點860 ℃,溶于酸,不溶于水。容易被氫氣、烴類等還原為金屬鉍。氧化鉍用于制備鉍鹽;用作電子陶瓷粉體材料、電解質材料、光電材料、高溫超導材料、催化劑。高純氮化鎵氧化鉍作為電子陶瓷粉體材料中的重要添加劑,純度一般要求在99.15%以上,主要應用對象有氧化鋅壓敏電阻、陶瓷電容、鐵氧體磁性材料三類;以及釉藥橡膠配合劑、醫藥、紅色玻璃配合劑等方面。

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