氧化鎵的導熱性能較差,但其禁帶寬度(4.9eV)超過碳化硅(約3.4eV),氮化鎵(約3.3eV)和硅(1.1eV)的。金屬鈧粉由于禁帶寬度可衡量使電子進入導通狀態所需的能量。采用寬禁帶材料制成的系統可以比由禁帶較窄材料組成的系統更薄、更輕,并且能應對更高的功率,有望以低成本制造出高耐壓且低損失的功率元件。求購金屬鈧粉廠家寬禁帶允許在更高的溫度下操作,從而減少對龐大的冷卻系統的需求。
對于蒸發鍍膜:一般是加熱靶材使表面組分以原子團或離子形式被蒸發出來,并且沉降在基片表面,通過成膜過程(散點-島狀結構-迷走結構-層狀生長)形成薄膜。金屬鈧粉厚度均勻性主要取決于:1、基片材料與靶材的晶格匹配程度;2、基片表面溫度;3、蒸發功率,速率;4、真空度;5、鍍膜時間,厚度大小。組分均勻性:蒸發鍍膜組分均勻性不是很容易保證,具體可以調控的因素同上,但是由于原理所限,對于非單組分鍍膜,蒸發鍍膜的組分均勻性不好。赤峰金屬鈧粉晶向均勻性:1、晶格匹配度;2、基片溫度;3、蒸發速率
鎵的鹵化物具有較高的活性,可以用于聚合和脫水等工藝,例如使用三氯化鎵(GaCl3)作催化劑生產乙基苯、丙基苯和酮。金屬鈧粉而來自美國和丹麥科研人員開發的一種新的鎳-鎵催化劑,可以用來轉化氫和二氧化碳為甲醇。金屬鈧粉廠家為了提高石油開采的經濟效益,包括中國在內的一些國家都在研究使用硝酸鎵的新型石油催化劑。
使金屬鎵在室溫或加熱的條件下與硫酸反應即可得到硫酸鎵的水溶液。金屬鈧粉或者將新制得的氫氧化鎵Ga(OH)3沉淀溶于2mol/L的硫酸溶液中也可制得硫酸鎵的水溶液。將這種硫酸鎵水溶液在60~70℃的溫度下進行濃縮,將所得的濃溶液冷卻,向其中加入乙醇/乙醚混合物,即可制得十八水硫酸鎵Ga2(SO4)3·18H2O的八面體結晶。赤峰金屬鈧粉反應中所用的氫氧化鎵沉淀可用向三價鎵鹽的水溶液加氨水制得。為了使生成的氫氧化鎵沉淀不致發生溶解,應注意不要使氨水加入過量。為了易于過濾,在沉定過程中可適當加熱。