使金屬鎵在室溫或加熱的條件下與硫酸反應即可得到硫酸鎵的水溶液。氧化鈧或者將新制得的氫氧化鎵Ga(OH)3沉淀溶于2mol/L的硫酸溶液中也可制得硫酸鎵的水溶液。將這種硫酸鎵水溶液在60~70℃的溫度下進行濃縮,將所得的濃溶液冷卻,向其中加入乙醇/乙醚混合物,即可制得十八水硫酸鎵Ga2(SO4)3·18H2O的八面體結晶。包頭氧化鈧反應中所用的氫氧化鎵沉淀可用向三價鎵鹽的水溶液加氨水制得。為了使生成的氫氧化鎵沉淀不致發生溶解,應注意不要使氨水加入過量。為了易于過濾,在沉定過程中可適當加熱。
鈧是稀土元素的一種,是應用于諸多國防軍工及高科技領域的不可替代的戰略資源。氧化鈧金屬鈧粉在新材料領域中的應用,包括在鋁鈧合金、燃料電池、鈧鈉鹵燈、示蹤劑、激光晶體、特種鋼和有色合金中的作用,并分析了它們的具體應用領域。包頭氧化鈧隨后分析了制約鈧規模化應用的因素,并簡要介紹了當前鈧資源的生產開發狀況。
在新型電光源中的應用,如鈧-鈉素燈,該燈發出的光接近太陽光,具有光度高,光色好,節電能,壽命長,破霧能力強等。氧化鈧在激光中的應用,在GGG加入鈧后,制成GSGG,發射功率比同體積的其它激光器提高了三倍,并可達到大功率化和小型化的要求。在合金中的應用:在合金材科中主要用于合金的添加劑和改性劑,在鋁及鋁合金中加入鈧后,可有效提高合金的綜合性能。求購氧化鈧粉末如合金的強度、硬度、耐熱性、耐蝕性和焊接性等有明顯提高。在其它領域的應用:如在中子過濾材料中加入鈧后,在核燃料過濾時,可防止UO2發生相變,利于運行作業。如含鈧的陰極用于彩電顯像管內,使的電源密度提高4倍,陰極使用壽命增長3倍等。
SiC和GaN相比,β-Ga2O3有望以低成本制造出高耐壓且低損失的功率半導體元件,因而引起了極大關注。氧化鈧我們一直在致力于利用氧化鎵(Ga2O3)的功率半導體元件(以下簡稱功率元件)的研發。Ga2O3與作為新一代功率半導體材料推進開發的SiC和GaN相比,有望以低成本制造出高耐壓且低損失的功率元件。包頭氧化鈧粉末其原因在于材料特性出色,比如帶隙比SiC及GaN大,而且還可利用能夠高品質且低成本制造單結晶的“溶液生長法”。
真空鍍膜過程非常復雜,由于鍍膜原理的不同分為很多種類,僅僅因為都需要高真空度而擁有統名稱。氧化鈧所以對于不同原理的真空鍍膜,影響均勻性的因素也不盡相同。并且均勻性這個概念本身也會隨著鍍膜尺度和薄膜成分而有著不同的意義。氧化鈧粉末化學組分上的均勻性:就是說在薄膜中,化合物的原子組分會由于尺度過小而很容易的產生不均勻性,SiTiO3薄膜,如果鍍膜過程不科學,那么實際表面的組分并不是SiTiO3,而可能是其他的比例,鍍的膜并非是想要的膜的化學成分,這也是真空鍍膜的技術含量所在。晶格有序度的均勻性:這決定了薄膜是單晶,多晶,非晶,是真空鍍膜技術中的熱點問題。
氧化鈧的化學式為Sc2O3。性質:白色固體。具有稀土倍半氧化物的立方結構。密度3.864.熔點2403℃±20℃。不溶于水,溶于熱酸中。氧化鈧由鈧鹽熱分解制得。可用作半導體鍍層的蒸鍍材料。制做可變波長的固體激光器和高清晰度的電視電子槍、金屬鹵化物燈等。由于Sc2O3產品具有獨特的物化性質,故在20世紀80年代以來,在許多高新技術和工業部門中獲得了較好的應用發展。求購氧化鈧粉末目前我國及世界的Sc2O3在合金、電光源、催化劑、激活劑和陶瓷等領域的應用狀況敘述于后。